Для исследования контактной задачи необходимо получить составляющие эпюры отпора от каждого фактора. Эпюра распределения реактивного давления по подошве фундамента является исходной для получения значения внешней нагрузки при определении внутренних усилий в конструктивных элементах зданий.
Принимая во внимание, что теоретические трактовки характера эпюры отпора, основанные на гипотезе Винклера, отличаются от экспериментальных данных и что при натурных испытаниях невозможно выявить раздельное влияние вертикальных и горизонтальных деформаций основания и других факторов на характер эпюры отпора, возникла необходимость получить более наглядную и точную картину распределения влияния различных факторов конкретных условий на вид эпюры отпора. Решить эту задачу можно при моделировании взаимодействия фундаментов с деформирующимся основанием, применив при исследованиях поляризационно-оптический метод (метод фотоупругости и фотопластичности).
При моделировании грунт основания в первом приближении рассматриваем как линейно-деформируемую среду, считая, что контактная задача для ленточного фундамента может решаться как плоская в пределах упруго-деформированного состояния. Исследование контактной задачи поляризационно-оптическим методом при искривлении основания проводится впервые.
Получаемые при этом методе путем просвечивания поляризационным светом прозрачной модели картины изохром и изоклин дают полное представление о поле напряжений и позволяют определить величины этих напряжений в любой точке модели.
Возможности перенесения результатов исследования напряжений, выполненных поляризационно-оптическим способом, на другие материалы основаны на том факте, что при постоянных объемных силах уравнения, Устанавливающие распределение напряжений в плоской задаче, не содержат упругих постоянных материалов (модуль упругости Е и коэффициент Пуассона.